![Cover-Bild Erzeugung und Anwendungspotential von mit dem PLD-Verfahren hergestellten superharten amorphen Kohlenstoffschichten](https://www.lesejury.de/media/images/product-huge/erzeugung-und-anwendungspotential-von-mit-dem-pld-verfahren-hergestellten-superharten-amorphen-kohlenstoffschichten_9783844029598.jpg)
48,80
€
inkl. MwSt
- Verlag: Shaker
- Genre: keine Angabe / keine Angabe
- Seitenzahl: 177
- Ersterscheinung: 06.08.2014
- ISBN: 9783844029598
Erzeugung und Anwendungspotential von mit dem PLD-Verfahren hergestellten superharten amorphen Kohlenstoffschichten
Ziel der Arbeit ist die Überführung von Wissen zur Herstellung von superharten, amorphen, tetraedrisch gebundenen Kohlenstoffschichten (ta-C) mit dem gepulsten Laserabscheideverfahren (PLD) in Kombination mit dem Laserpulsspannungsrelaxation-Verfahren (LSR) in die Industrie.
Es werden die folgenden drei Teilprozesse hinsichtlich ihres Einflusses auf die ta-C Schichteigenschaften untersucht:
- Targetbeschaffenheit und Vorbehandlung von Targets und Substraten,
- der ns- Ablationsprozess mittels Kryptonfluorid- Excimerlaser,
- das ta-C Schichtwachstum und daraus resultierend mögliche Beschichtungsfehler.
Aus diesen Vorbetrachtungen werden die Ursachen für Beschichtungsfehler erarbeitet und Vorschläge zu deren Vermeidung gegeben. Die Droplet- bzw. Partikulatminimierung spielt dabei eine bedeutende Rolle.
Weiterhin werden die Schichteigenschaften in Abhängigkeit von den Prozessparametern des PLD-Prozesses bestimmt und daraus das Potential der ta-C Schichten hinsichtlich der industriellen Anwendbarkeit aufgezeigt. Neben morphologischen und mechanischen ta-C Schichteigenschaften werden in diesem Zusammenhang auch die optischen Eigenschaften analysiert. Es wird gezeigt, dass die unterschiedlichen Eigenschaften unter Variation der Ablationsfluenzen in weiten Bereichen definiert eingestellt werden können. Ta-C Schichten können beispielsweise mit gezielten Härtewerten zwischen ca. 15 – 60 GPa abgeschieden werden.
Diese Arbeit soll dem industriellen Anwender Hinweise für die Herstellung von industrietauglichen PLD-/LSR-Beschichtungsanlagen und für die Erzeugung von haftfesten, spannungsfreien, superharten ta-C-Schichten geben.
Es werden die folgenden drei Teilprozesse hinsichtlich ihres Einflusses auf die ta-C Schichteigenschaften untersucht:
- Targetbeschaffenheit und Vorbehandlung von Targets und Substraten,
- der ns- Ablationsprozess mittels Kryptonfluorid- Excimerlaser,
- das ta-C Schichtwachstum und daraus resultierend mögliche Beschichtungsfehler.
Aus diesen Vorbetrachtungen werden die Ursachen für Beschichtungsfehler erarbeitet und Vorschläge zu deren Vermeidung gegeben. Die Droplet- bzw. Partikulatminimierung spielt dabei eine bedeutende Rolle.
Weiterhin werden die Schichteigenschaften in Abhängigkeit von den Prozessparametern des PLD-Prozesses bestimmt und daraus das Potential der ta-C Schichten hinsichtlich der industriellen Anwendbarkeit aufgezeigt. Neben morphologischen und mechanischen ta-C Schichteigenschaften werden in diesem Zusammenhang auch die optischen Eigenschaften analysiert. Es wird gezeigt, dass die unterschiedlichen Eigenschaften unter Variation der Ablationsfluenzen in weiten Bereichen definiert eingestellt werden können. Ta-C Schichten können beispielsweise mit gezielten Härtewerten zwischen ca. 15 – 60 GPa abgeschieden werden.
Diese Arbeit soll dem industriellen Anwender Hinweise für die Herstellung von industrietauglichen PLD-/LSR-Beschichtungsanlagen und für die Erzeugung von haftfesten, spannungsfreien, superharten ta-C-Schichten geben.
Meinungen aus der Lesejury
Es sind noch keine Einträge vorhanden.